フォトニクスのビジネス価値
Ansys Lumericalのフォトニクスシミュレーションおよび解析ツールの包括的なスイートは、コンポーネントレベルおよびシステムレベルのシミュレーションを提供し、パフォーマンスの最適化、物理プロトタイピングにかかるコストの最小化、市場投入までの時間の短縮を実現します。設計フローの強化により、設計者は、主要なファウンドリプロセスに合わせてキャリブレーションされたコンパクトなモデルを使用できます。
Ansys Lumericalのフォトニクスシミュレーションおよび解析ツールの包括的なスイートは、コンポーネントレベルおよびシステムレベルのシミュレーションを提供し、パフォーマンスの最適化、物理プロトタイピングにかかるコストの最小化、市場投入までの時間の短縮を実現します。設計フローの強化により、設計者は、主要なファウンドリプロセスに合わせてキャリブレーションされたコンパクトなモデルを使用できます。
Ansys Lumericalは、完全なフォトニクスシミュレーションソフトウェアソリューションであり、フォトニクスコンポーネント、回路、およびシステムの設計を可能にします。デバイスレベルとシステムレベルのツールがシームレスに連携するため、設計者は相互作用する光学的、電気的、熱的効果をモデル化できます。製品間の柔軟な相互運用性により、デバイスのマルチフィジックスおよびフォトニック回路シミュレーションとサードパーティの設計自動化および生産性ツールを組み合わせたさまざまなワークフローが可能になります。コンパクトモデルを作成して使用するためのPythonベースの自動化とフローは、業界大手ファウンドリをサポートしています。
The 2023 R1 release of Ansys Lumerical introduces a series of powerful new capabilities to extend usability, accuracy, performance, and functionality across its family of products
For details, please see our release notes.
FDTDは、ナノフォトニックデバイス、プロセス、および材料のモデリングのゴールドスタンダードです。
MODEには、導波路とカプラの設計を最大限に活用するために必要な機能がすべて揃っています。
CHARGEは、半導体デバイスにおける包括的な電荷輸送シミュレーションのための適切なツールを設計者に提供します。
有限要素法に基づいて開発されたHEATは、設計者に包括的な熱モデリング機能を提供します。
FEEMは、有限要素法マクスウェルのソルバーを使用して、優れた精度とパフォーマンスのスケーリングを実現します。
MQWは、原子的に薄い半導体層における量子力学的振る舞いをシミュレーションします。
STACKは、薄膜多層スタックの迅速な解析に理想的なソリューションです。
厳密な結合波解析法に基づくLumerical RCWAは、周期的および多層構造の光散乱の迅速なシミュレーションを提供することで、Lumerical FDTDおよびSTACKを補完します。
実証済みの自動化されたクロスシミュレータにより、フォトニックコンパクトモデルライブラリ(CML)を生成できます。
業界をリードするEDAシミュレータと併用することで、マルチモード、マルチチャネル、および双方向のフォトニック回路モデリングを可能にします。
Ansys Lumericalのフォトニック集積回路シミュレータは、マルチモード、双方向、およびマルチチャネルのPICを検証します。
Ansys Lumericalのフォトニクスシミュレーションおよび設計機能により、エンジニアはナノフォトニクスデバイス、回路、プロセス、および材料をモデル化できます。
Ansysのソリューションはシームレスに連携するため、最も困難なフォトニクスの問題をモデル化できます。ツール間の柔軟な相互運用性により、デバイスのマルチフィジックスおよびシステムレベルのフォトニック回路シミュレーションとサードパーティの設計自動化および生産性ツールを組み合わせたさまざまなワークフローが可能になります。
微調整されたFDTD手法の実装により、幅広いアプリケーションで信頼性が高く、強力で拡張性に優れたソルバーパフォーマンスをもたらします。統合された設計環境は、スクリプト機能、高度なポスト処理および最適化ルーチンを提供するため、設計に集中することができます。
パラメータ化可能なシミュレーションオブジェクトを使用できる3D CAD環境では、モデルの反復計算を迅速に行うことができます。2Dおよび3Dモデルを作成し、カスタムのサーフェスおよびボリュームを定義して、標準的なCADおよびICレイアウトフォーマットからジオメトリをインポートします。
Ansysのフォトニック集積回路(PIC)シミュレーションツールは、業界をリードする電子設計自動化(EDA)シミュレータと連携することで、電子-フォトニック統合システムの設計と実装を容易にします。Virtuoso®およびSiemens EDAを使用して、電子-フォトニック設計自動化(EPDA)ワークフローを利用できます。
複数のLumericalツール間でシミュレーションを作成、実行、制御したり、サードパーティアプリケーションに接続できます。Lumericalのスクリプト記述言語、MATLAB、またはPythonを活用して、数値解析、可視化、最適化などを行えます。
Lumericalは、多くの一般的な端面発光レーザートポロジーをモデル化するための統合されたツールセットを提供しています。ハイブリッドモデリングアプローチは、物理シミュレーションの精度とフォトニック集積回路シミュレーションのパフォーマンスとスケールを組み合わせたものです。SOA、スタンドアロンのFPおよびDFBレーザーから、複雑な外部共振型DBR、Ring GratingまたはSampled Grating Vernierレーザーまで、あらゆるものを設計およびモデル化します。
目的のターゲットパフォーマンスに最適なジオメトリを自動的に特定し、直感的ではないジオメトリを検出して、パフォーマンスを最適化し、面積を最小化して、製造性を向上させます。形状ベースまたはトポロジー最適化を用いてパフォーマンスをシミュレーションし、最適なソリューションを見つけます。
実証済みの自動化されたクロスシミュレータにより、フォトニックコンパクトモデルライブラリ(CML)を生成します。CML Compilerは、特性評価測定と3Dシミュレーション結果が集約された単一データソースからのINTERCONNECTおよびVerilog-Aフォトニックコンパクトモデルライブラリ(CML)の作成、メンテナンス、およびQAテストを自動化します。
ファウンドリ仕様に準拠したカスタムの能動素子および受動素子を使用して、既存のPDKを迅速に拡張できるプロセス対応のカスタム設計フローです。
Ansys Speosとの統合により、ナノフォトニックシミュレーションとマクロスケールシミュレーションの環境間の断絶が橋渡しされることで、設計者は照明、視野角、および人間の知覚の影響を考慮することができます。
ディスプレイおよびイメージセンサーアプリケーション向けのデモワークフローもあります。
optiSLangを使用することで、複雑なワークフローでもLumerical製品を使用できるため、設計者は設計最適化機能と感度解析機能を活用できます。
ディスプレイおよびモジュレータアプリケーション向けのデモワークフローもあります。
フォトニックプロセス設計キット(PDK)で使用するフォトニックコンパクトモデルライブラリ(CML)を効率的に作成できます。CML Compilerを使用して、INTERCONNECTおよびVerilog-AフォトニックCMLの作成、メンテナンス、品質保証(QA)テストを行えます。