快速规格
Lumerical INTERCONNECT包含丰富的功能和工作流程，其中包括丰富的基本元件库以及特定于代工厂的PDK元件。
解决无法解决的问题
INTERCONNECT是Ansys Lumerical的光子集成电路仿真器
INTERCONNECT是Lumerical的光子集成电路仿真器，可验证多模、双向和多通道PIC。在我们的分层原理图编辑器中创建项目时，用户可以使用我们丰富的基本元件库以及特定于代工厂的PDK元件开展时域或频域分析。
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分层原理图编辑器
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PIC元件库
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EDA互操作性
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统计分析
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分层设计 -
瞬态分析 -
混合信号表示 -
导入紧凑库模型
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GUI和Lumerical脚本 -
瞬态样本模型仿真器 -
电子-光子协同仿真 -
行波激光模型
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频域分析 -
多模和多通道支持 -
参数扫描 -
统计分析
What's New
The 2023 R1 release includes new features in Ansys Lumerical INTERCONNECT for enhanced integrated photonic circuit simulation, electronic-photonic design automation and layout-driven design workflows.
New KLayout Workflow
New KLayout integration with component-level simulation tools enables easy import of layouts.
New Enhancements for Electronic Photonic Design Automation
Improved Spectre-INTERCONNECT interface resulting in 5X speed improvement in electro-optical co-simulation
New optical monitor element in Virtuoso-INTERCONNECT integration for convenient probing of optical ports and measurement of the outcoming optical power and phase
资源
使用Ansys Lumerical INTERCONNECT验证多模、双向和多通道PIC
通过Lumerical INTERCONNECT体验光子集成电路仿真的功能和工作流程。可用的工作流程可加快设计速度并改善制造成果。INTERCONNECT包含丰富的无源和有源元件库，并支持许多带有校准后紧凑模型的代工厂PDK。
主要特性
在时域和频域中执行光子集成电路仿真和分析。
- PIC仿真和设计
- EDA与PDA互操作性
- 统计分析
- PIC元件库
- CML开发与分发
借助分层原理图编辑器，使用INTERCONNECT设计和仿真光子集成电路。INTERCONNECT包括频域分析、瞬态样本模式仿真和瞬态块模式仿真。它包括复杂的可视化和数据分析工具，支持参数扫描和设计优化。
利用熟悉的EDA设计工具和工作流程仿真并优化您的设计，以加快设计速度并提高可靠性。
开展角分析，以建模工艺变化对电路性能的影响。开展蒙特卡罗分析，通过考虑工艺变化来评估电路性能和良率
INTERCONNECT包含丰富的无源和有源光电构标准元件库，以及能开展仿真并分析结果的辅助元件。它包括两个库扩展：
- 用于激光建模的元件库扩展
- 用于高级系统建模的元件库扩展，包括精密光纤、放大器、FEC编码和均衡模型
INTERCONNECT与Ansys Lumerical的器件级工具为PIC仿真和设计提供了支持紧凑模型库（CML）开发与分发的基础架构。通常，构建CML的方法是将实验测量的数据与使用Lumerical的器件级光子工具获得的准确器件级仿真结果相结合。
案例研究
应用库
参考手册
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让所有用户（包括残障人士）都可以访问我们的产品，这对Ansys至关重要。因此，我们努力遵循基于美国访问委员会（Section 508）、网页内容无障碍指南（WCAG）和自愿产品可访问性模板（VPAT）的当前格式的可访问性要求。
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