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Ansys Zemax OpticStudio
完整光學
設計軟體

獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。為多種應用設計複雜的光學系統,並具備包括結構與熱分析在內的進階功能。 

實現準時、符合預算的光學設計週期

探索實現創新構想的新方式,打造出能為世界帶來深遠影響的產品。OpticStudio 在光學產業、市場領導級公司與全球各大學皆被認可為光學、照明和雷射系統唯一設計標準。

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    分析、最佳化、調整公差
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    全球使用者群
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    領先業界的標準
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    提供內建 STOP 分析
A machine manufacturing software

簡要規格

改革光學設計工作流程,讓您有更多時間高效率工作,將更多時間用於驗證和最佳化您的設計。透過我們先進的 API 整合,最大程度提升效率和精確性。瞭解 OpticStudio Enterprise 版本如何革新您的設計流程,迅速分析結構和熱負載對設計的影響。

  • 領先業界的光學系統設計
  • 直觀、易於使用的使用者介面
  • 動態 CAD 整合 (Premium)
  • 啟用 STAR 的 STOP 分析 (Enterprise)
  • 穩健、功能強大的光線追蹤
  • 說明文件與報告
  • 支援與訓練
  • 進階最佳化演算法

2024 年 7 月

最新功能

在 2024 R2 版本中,Ansys Zemax OpticStudio 提供全面的功能組合,可增強對多物理模擬的支援,以及對可製造性設計 (DfM) 真實光學系統的支援,並改善效率、速度和擴充性。

擴充的 OpticStudio 工作流程功能
將光學設計匯出至 Speos 的改善

讓使用者透過從 Zemax 到 Speos 簡化的資料交換,以及 Speos 的序列式路徑偵測功能強化,將雜散光對系統效能造成的真實影響納入考量。

強化的雜散光分析
偏軸孔徑與 RSI (旋轉對稱不規則) 適用的公差運算元

根據 ISO 10110-5 繪製標準,提供四種新公差運算元,可精確容許表面形狀公差 3/A(B/C),讓使用者能考慮製造與製程錯誤實際造成的影響。

超透鏡模擬的進展
FFT MTF 多線程

FT MTF 多線程使用可用的 CPU 資源,同時確保沒有 CPU 核心閒置。它會同時處理多個欄位和波長以提升速度,透過分散工作負載作業來減少整體的運算時間並提高擴充性。多線程可透過分散工作來處理增加的工作負載,使系統更具擴充性。


應用領域

Autonomous Sensor Development

自動駕駛感測器開發

完整的自動駕駛車輛感應器模擬功能,包括光學雷達、雷達與攝影機的設計及開發。

Autonomous System Validation

自動駕駛系統驗證

進行以模型為基礎的安全及網路安全評估,可加速自動駕駛系統的開發和認證。

Cardiovascular

心血管

快速可靠的創新並測試新的心血管醫療裝置和植入物

OLED

常見問題

Ansys Zemax OpticStudio 是一個光學設計軟體工具,用於構思造影、照明、雷射系統等。OpticStudio 的易用介面結合了分析、最佳化和公差工具,有助於可製造性設計。延伸的自訂選項可讓您根據需求量身打造 OpticStudio,或將您的工作自動化。整合式多重物理量工作流程可簡化結構、散熱或液體模擬結果的使用 

Ansys Zemax OpticStudio 提供各種學習選項。

  • 豐富的知識庫提供各式各樣的教學課程,從入門教學課程到系統層級的教學文章應有盡有。
  • 我們的 Zemax 使用者社群也有助於與進階使用者互動,以及學習秘訣和技巧。
  • Ansys Learning Hub  提供自訂進度的影片課程,可讓您學習 Ansys Zemax OpticStudio。

STAR 多重物理量工具可讓客戶執行 STOP 分析 (結構、熱、光學性能) 和 Ansys 獨家的 SOFT 分析 (結構性光學液體熱)。Ansys Zemax OpticStudio 可讓您輕鬆且準確地從外部求解器載入所需的資料。之後使用者就可以同時評估系統效能,包括結構、光學、液體及散熱效果。

您可在此網路研討會進一步瞭解:用自動化暫時工作流程的 STAR 進行 STOP 分析 (ansys.com)

目前的客戶可從 Ansys 客戶入口網站的下載中心下載 Ansys Zemax OpticStudio。對於目前尚未成為客戶,但對試用 OpticStudio 有興趣的客戶,Ansys 提供免費的 OpticStudio 30 天試用版。隨附範例檔案和設計範本。我們豐富的知識庫提供各式各樣的教學課程,從入門教學課程到系統層級的教學文章應有盡有。

Ansys Zemax OpticStudio 可利用理想的相位設定檔來為超構表面建模,然後使用光線追蹤功能將其最佳化。Ansys Lumerical 可在奈米結構層級快速產生回應。根據這些資訊,超透鏡可在 OpticStudio 中在使用者定義的表面上精確設定。所有光線工具均可用於評估系統效能。

Ansys Zemax OpticStudio 所提供的進階公差工具包含簡單易用的表面不規則處選項。它利用複合表面功能並使用 Zernike Sag 資料來為表面的不規則建模,包括複雜的基底形狀,例如非球面或多種類型的自由曲面表面。所有其他製造公差都可新增,以評估您的完工效能良率。 

獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。

Ansys Zemax OpticStudio 是在複雜、高精密光學系統內設計元件和子組件的解決方案。這樣的系統能因應數個成長快速的產業中的各種應用,從 AR/VR 到光學雷達、醫學造影、資料通訊等。

Dr VR analysis

 

主要特色

  • 光線追蹤
  • 鏡頭設計
  • 公差分析
  • 最佳化
  • 互通性
  • 多重物理量模擬
  • 方便易用的介面

採用先進的光線追蹤演算法來模擬光學系統中光的行為,讓工程師能分析並最佳化
鏡片、鏡子與其他光學元件的性能。

促進複雜光學系統的設計,包括鏡片形狀、材料與塗層的最佳化,以達到所需的成像特性。

工程師可以執行公差分析來評估製造
變異對光學系統性能的影響,有助於確保設計是穩健並可製造的。

Ansys Zemax OpticStudio 包含可 
自動調整設計參數以符合具體效能標準的最佳化工具,能協助工程師為光學系統找到最佳的
解決方案。

Ansys Zemax OpticStudio 支援與其他工程工具的互通性,可緊密整合於整體產品設計與開發程序。

同時模擬多種物理現象,例如
熱對於光學的效應,更全面地瞭解真實世界的效能。

簡單易用的介面,提供多種工具、精靈與視覺化畫面,協助工程師進行設計與分析程序。

Ansys Zemax OpticStudio 授權

Ansys Zemax OpticStudio 是一項強大的工具,可讓光學工程師與設計師在建置實體原型之前,先行模擬、最佳化及驗證光學設計。它能讓工程師在虛擬環境中反覆執行及改進設計,有助於節省開發光學系統的時間與資源。

若要利用 Ansys Zemax OpticStudio 進行多重物理量分析,需要 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權。Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權可讓您輕鬆將結構、熱、折射指數等資料匯入 OpticStudio 工作流程,產生關鍵設計洞見,節省可觀時間,並帶來全新的系統分析可能性。 

產品套件

OPTICSOpticStudio ProOpticStudio PremiumOpticStudio Enterprise
Ansys Optics Launcher包含包含包含
序列式光線追蹤包含包含包含
蒙地卡羅前向 (非序列式) 光線追蹤包含包含包含
多組態系統建模包含包含包含
每個授權的平行應用程式執行個體數量488
極化、梯度折射率和光學雙折射光線追蹤包含包含包含
設計範本與廠商鏡片目錄包含包含包含
材料目錄包含包含包含
塗層目錄包含包含包含
完善的最佳化方法包含包含包含
敏感度公差包含包含包含
蒙地卡羅公差包含包含包含
射線瞄準包含包含包含
非球面光學元件包含包含包含
自由曲面光學元件包含包含包含
繞射光學元件包含包含包含
複合表面包含包含包含
影像品質分析 (幾何和繞射)包含包含包含
高斯光束包含包含包含
物理光學傳播包含包含包含
Ghost Focus Generator包含包含包含
射線分割與散射包含包含包含
重要性取樣包含包含包含
STAR 多物理量載入、適配及視覺化工具 (FEA、CFD)  包含
STAR 效能分析  包含
使用者定義的表面、物件、來源和散射輪廓外掛程式 包含包含
運用 ZOS-API 與指令碼自動化的工作流程自動化包含包含包含
將完整設計或降階模型 (ROM) 匯出至 Speos包含包含包含
動態與靜態交換,搭配 Lumerical 次波長模型 (LSWM) 外掛程式模擬包含包含包含
適用於超透鏡模擬的 Lumerical 外掛程式 (靜態資料交換) 包含包含
匯入及匯出 STEP、IGES、SAT、STL包含包含包含
用於 Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 的 Dynamic Link 包含包含

OPTICSTUDIO 資源與活動

精選線上研討會

部落格

案例研究

白皮書

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散熱、結構和紊流流動的任務導向光學模擬

針對複雜的設計挑戰提出更精簡的解決方案。

2020-12-white-paper-icon-block.jpg

用 OpticStudio 與 OpticsBuilder 在超短距投影機設計中最佳化效能

本白皮書逐步說明 Ansys Zemax 實現的超短距投影系統設計和分析的五個階段,示範在超短距投影系統設計中加入光學機械系統分析時,我們的整合式工具能如何縮短時間與所需專業技術,並降低相關錯誤風險。

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