簡要規格
使用物理導向模擬技術、序列和非序列光線追蹤，以及先進的公差工具，為先進的光學系統進行建模、分析和最佳化，並從概念設計到投入製造驗證階段提供準確效能預測。
Synopsys and Ansys power the future of innovation—connecting silicon to systems.
自信地設計、最佳化及驗證光學元件
Ansys Zemax OpticStudio 可讓您更快地設計、模擬和驗證光學系統。結合強大的物理導向建模技術與直觀工作流程，協助工程師預測真實世界的效能並減少設計迭代，同時自信地在成像、照明和光子學應用領域中，提供經最佳化且可投入生產的光學元件。
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非序列光線追蹤
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物理光學傳播
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公差靈敏度分析
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自由曲面建模
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偏振光線追蹤
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雜散光分析
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多物理耦合
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波前誤差分析 -
調變傳輸函數 -
點擴散函數
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繞射光學建模 -
塗層效能分析 -
梯度指數建模
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熱光學效應 -
玻璃型錄整合 -
優值函數最佳化
液態鏡頭模擬推動醫療成像設計的發展
模擬導向的洞察能夠提升早期偵測能力與診斷準確度。
Ansys Zemax 讓 Optotune 能模擬且最佳化高解析度醫療成像的先進液態鏡頭系統。工程師在進行原型設計之前，便可使用物理導向的建模技術評估光學效能，將設計迭代次數降至最低，並預測真實世界的行為。此研究展示了以模擬驅動的設計如何加速開發，同時確保準確度、可靠性和可製造性。該團隊透過整合全面的分析與快速的最佳化，交付能夠支援早期疾病偵測的成像效能。此個案研究展示了先進光學模擬如何降低風險，縮短開發時間，並在今日的全球醫療保健環境中，實現次世代診斷技術的創新，以滿足全球各地的苛刻臨床效能要求。
2026 年 3 月
最新功能
透過 Ansys Zemax OpticStudio 2026 R1 版本，簡化複雜的光學設計。強化的工具與順暢的整合，讓公差、成像及跨工具工作流程在實際系統中進行地更快速、易用又可靠。
巢狀元件與系統公差 (NEST)
NEST 以循序系統的視覺化引導式工作流程，簡化光機公差。主要功能包含智慧樞軸預設、自動插入運算元、即時更新及支援離軸設計，不僅降低設定複雜度，還能提升準確度。
NSC 成像設計
NSC 成像增強功能將非循序模式轉變為實用的成像工具，透過適當的光闌、快速對焦、光點圖與序列分組等功能簡化工作流程，消除長久以來摺疊式與複雜系統中的阻礙。
匯出光學設計 (ODX) 至 Speos 的增強功能
Speos 的 ODX 增強功能可透過無縫整合實際設計 (包括稜鏡與桌面玻璃器具) 來簡化工作流程，同時不犧牲準確度。先前使用 Code V 的使用者，能從更快速且順暢轉換到 OpticStudio 的功能中受益。
NSC 快速對焦
NSC 快速對焦功能可簡化非循序模式中的偵測器定位，利用預期的光線路徑，自動將偵測器對齊焦點、置中與方向，節省設定時間並維持準確度。這項功能支援多波長系統與多光源，是自信處理複雜光學設計的不二選擇。適用於 Premium 與 Enterprise 版本。
NSC 序列分組
NSC 序列分組功能可簡化大型光線路徑集合的管理，讓您能依據關鍵光學與物理特性手動或自動將序列分組，並透過動態更新與依範圍篩選，進行精確分析。適用於 Premium 與 Enterprise 版本。
NSC 光點圖
NSC 光點圖功能可在非循序模式中進行原生光點圖分析。此功能可讓您直接使用沿所選序列追跡的光線來評估影像品質，並提供 RMS、幾何光點尺寸、通量等項目的詳細報告。透過與序列選擇器無縫整合及新增 RSNC 運算元，最佳化與分析比以往更加精準。適用於 Premium 與 Enterprise 版本。
常見問題
Ansys Zemax OpticStudio 是一個光學設計軟體工具，用於構思造影、照明、雷射系統等。OpticStudio 的易用介面結合了分析、最佳化和公差工具，有助於可製造性設計。延伸的自訂選項可讓您根據需求量身打造 OpticStudio，或將您的工作自動化。整合式多重物理量工作流程可簡化結構、散熱或液體模擬結果的使用
高保真度光學建模和效能預測
Ansys Zemax OpticStudio 使用先進的光線追蹤、波動光學和偏振分析，提供高保真度光學建模。工程師可以預測系統效能、評估公差，並以高數值準確度評鑑環境影響。整合式序列與非序列模擬，可在原型設計前，進行嚴格的系統層級光學驗證。
主要特色
使用 Ansys Zemax OpticStudio 軟體功能，簡化並加速推動光學設計專案。
- 統一序列和非序列建模架構
- 用於波前分析的物理光學傳播 (POP)
- 進階最佳化與公差分析引擎
- Ansys 多重物理量和結構熱耦合
- 高速序列和非序列光線追蹤
- 進階雜散光與鬼影分析
- 偏振和鍍膜效能建模
- 內建玻璃型錄和材料建模
- API 自動化和指令碼 (ZOS-API) 整合
Ansys Zemax OpticStudio 授權
Ansys Zemax OpticStudio 是一項強大的工具，可讓光學工程師與設計師在建置實體原型之前，先行模擬、最佳化及驗證光學設計。它能讓工程師在虛擬環境中反覆執行及改進設計，有助於節省開發光學系統的時間與資源。
若要利用 Ansys Zemax OpticStudio 進行多重物理量分析，需要 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權。Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權可讓您輕鬆將結構、熱、折射指數等資料匯入 OpticStudio 工作流程，產生關鍵設計洞見，節省可觀時間，並帶來全新的系統分析可能性。
產品套件
| OPTICS | OpticStudio Pro | OpticStudio Premium | OpticStudio Enterprise |
|---|---|---|---|
| Ansys Optics Launcher | 包含 | 包含 | 包含 |
| 序列式光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅前向 (非序列式) 光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 多組態系統建模 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 每個授權的平行應用程式執行個體數量 | 4 | 8 | 8 |
| 極化、梯度折射率和光學雙折射光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 設計範本與廠商鏡片目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 材料目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 塗層目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 完善的最佳化方法 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 敏感度公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線瞄準 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 非球面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 自由曲面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 繞射光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 複合表面 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 影像品質分析 (幾何和繞射) | 包含 | 包含 | 包含 |
| 高斯光束 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 物理光學傳播 | 包含 | 包含 | 包含 |
| Ghost Focus Generator | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線分割與散射 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 重要性取樣 | 包含 | 包含 | 包含 |
| STAR 多物理量載入、適配及視覺化工具 (FEA、CFD) | 包含 | ||
| STAR 效能分析 | 包含 | ||
| 使用者定義的表面、物件、來源和散射輪廓外掛程式 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 運用 ZOS-API 與指令碼自動化的工作流程自動化 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 將完整設計或降階模型 (ROM) 匯出至 Speos | 包含 | 包含 | 包含 |
| 動態與靜態交換，搭配 Lumerical 次波長模型 (LSWM) 外掛程式模擬 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 適用於超透鏡模擬的 Lumerical 外掛程式 (靜態資料交換) | 包含 | 包含 | |
| 匯入及匯出 STEP、IGES、SAT、STL | 包含 | 包含 | 包含 |
| 用於 Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 的 Dynamic Link | 包含 | 包含 |
OPTICSTUDIO 資源與活動
