簡要規格
改革光學設計工作流程，讓您有更多時間高效率工作，將更多時間用於驗證和最佳化您的設計。透過我們先進的 API 整合，最大程度提升效率和精確性。瞭解 OpticStudio Enterprise 版本如何革新您的設計流程，迅速分析結構和熱負載對設計的影響。
Ansys Zemax OpticStudio
完整光學
設計軟體
獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。為多種應用設計複雜的光學系統，並具備包括結構與熱分析在內的進階功能。
實現準時、符合預算的光學設計週期
探索實現創新構想的新方式，打造出能為世界帶來深遠影響的產品。OpticStudio 在光學產業、市場領導級公司與全球各大學皆被認可為光學、照明和雷射系統唯一設計標準。
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分析、最佳化、調整公差
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全球使用者群
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領先業界的標準
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提供內建 STOP 分析
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領先業界的光學系統設計 -
直觀、易於使用的使用者介面 -
動態 CAD 整合 (Premium)
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啟用 STAR 的 STOP 分析 (Enterprise) -
穩健、功能強大的光線追蹤 -
說明文件與報告
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支援與訓練 -
進階最佳化演算法
2026 年 3 月
最新功能
透過 Ansys Zemax OpticStudio 2026 R1 版本，簡化複雜的光學設計。強化的工具與順暢的整合，讓公差、成像及跨工具工作流程在實際系統中進行地更快速、易用又可靠。
巢狀元件與系統公差 (NEST)
NEST 以循序系統的視覺化引導式工作流程，簡化光機公差。主要功能包含智慧樞軸預設、自動插入運算元、即時更新及支援離軸設計，不僅降低設定複雜度，還能提升準確度。
NSC 成像設計
NSC 成像增強功能將非循序模式轉變為實用的成像工具，透過適當的光闌、快速對焦、光點圖與序列分組等功能簡化工作流程，消除長久以來摺疊式與複雜系統中的阻礙。
匯出光學設計 (ODX) 至 Speos 的增強功能
Speos 的 ODX 增強功能可透過無縫整合實際設計 (包括稜鏡與桌面玻璃器具) 來簡化工作流程，同時不犧牲準確度。先前使用 Code V 的使用者，能從更快速且順暢轉換到 OpticStudio 的功能中受益。
NSC 快速對焦
NSC 快速對焦功能可簡化非循序模式中的偵測器定位，利用預期的光線路徑，自動將偵測器對齊焦點、置中與方向，節省設定時間並維持準確度。這項功能支援多波長系統與多光源，是自信處理複雜光學設計的不二選擇。適用於 Premium 與 Enterprise 版本。
NSC 序列分組
NSC 序列分組功能可簡化大型光線路徑集合的管理，讓您能依據關鍵光學與物理特性手動或自動將序列分組，並透過動態更新與依範圍篩選，進行精確分析。適用於 Premium 與 Enterprise 版本。
NSC 光點圖
NSC 光點圖功能可在非循序模式中進行原生光點圖分析。此功能可讓您直接使用沿所選序列追跡的光線來評估影像品質，並提供 RMS、幾何光點尺寸、通量等項目的詳細報告。透過與序列選擇器無縫整合及新增 RSNC 運算元，最佳化與分析比以往更加精準。適用於 Premium 與 Enterprise 版本。
常見問題
Ansys Zemax OpticStudio 是一個光學設計軟體工具，用於構思造影、照明、雷射系統等。OpticStudio 的易用介面結合了分析、最佳化和公差工具，有助於可製造性設計。延伸的自訂選項可讓您根據需求量身打造 OpticStudio，或將您的工作自動化。整合式多重物理量工作流程可簡化結構、散熱或液體模擬結果的使用
獲得模擬、最佳化和調整光學設計公差所需的一切。
Ansys Zemax OpticStudio 是在複雜、高精密光學系統內設計元件和子組件的解決方案。這樣的系統能因應數個成長快速的產業中的各種應用，從 AR/VR 到光學雷達、醫學造影、資料通訊等。
主要特色
- 光線追蹤
- 鏡頭設計
- 公差分析
- 最佳化
- 互通性
- 多重物理量模擬
- 方便易用的介面
Ansys Zemax OpticStudio 授權
Ansys Zemax OpticStudio 是一項強大的工具，可讓光學工程師與設計師在建置實體原型之前，先行模擬、最佳化及驗證光學設計。它能讓工程師在虛擬環境中反覆執行及改進設計，有助於節省開發光學系統的時間與資源。
若要利用 Ansys Zemax OpticStudio 進行多重物理量分析，需要 Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權。Ansys Zemax OpticStudio Enterprise 授權可讓您輕鬆將結構、熱、折射指數等資料匯入 OpticStudio 工作流程，產生關鍵設計洞見，節省可觀時間，並帶來全新的系統分析可能性。
產品套件
| OPTICS | OpticStudio Pro | OpticStudio Premium | OpticStudio Enterprise |
|---|---|---|---|
| Ansys Optics Launcher | 包含 | 包含 | 包含 |
| 序列式光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅前向 (非序列式) 光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 多組態系統建模 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 每個授權的平行應用程式執行個體數量 | 4 | 8 | 8 |
| 極化、梯度折射率和光學雙折射光線追蹤 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 設計範本與廠商鏡片目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 材料目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 塗層目錄 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 完善的最佳化方法 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 敏感度公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 蒙地卡羅公差 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線瞄準 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 非球面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 自由曲面光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 繞射光學元件 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 複合表面 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 影像品質分析 (幾何和繞射) | 包含 | 包含 | 包含 |
| 高斯光束 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 物理光學傳播 | 包含 | 包含 | 包含 |
| Ghost Focus Generator | 包含 | 包含 | 包含 |
| 射線分割與散射 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 重要性取樣 | 包含 | 包含 | 包含 |
| STAR 多物理量載入、適配及視覺化工具 (FEA、CFD) | 包含 | ||
| STAR 效能分析 | 包含 | ||
| 使用者定義的表面、物件、來源和散射輪廓外掛程式 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 運用 ZOS-API 與指令碼自動化的工作流程自動化 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 將完整設計或降階模型 (ROM) 匯出至 Speos | 包含 | 包含 | 包含 |
| 動態與靜態交換，搭配 Lumerical 次波長模型 (LSWM) 外掛程式模擬 | 包含 | 包含 | 包含 |
| 適用於超透鏡模擬的 Lumerical 外掛程式 (靜態資料交換) | 包含 | 包含 | |
| 匯入及匯出 STEP、IGES、SAT、STL | 包含 | 包含 | 包含 |
| 用於 Creo Parametric 和 Autodesk Inventor 的 Dynamic Link | 包含 | 包含 |
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