Hier finden Sie alles, was Sie zum Simulieren, Optimieren und Tarieren Ihrer optischen Designs benötigen. Entwerfen Sie komplexe optische Systeme für eine breite Palette von Anwendungen mit fortschrittlichen Funktionen, einschließlich struktureller und thermischer Analyse.
Entdecken Sie neue Möglichkeiten, um innovative Entwürfe in Produkte zu verwandeln, die die Welt verändern. OpticStudio ist der Standard für das Design von Optik-, Beleuchtungs- und Lasersystemen in führenden Unternehmen in der Optikindustrie und an Universitäten auf der ganzen Welt.
Revolutionieren Sie den Workflow für optisches Design, indem Sie mehr Zeit für die Validierung und Optimierung Ihrer Designs aufwenden. Maximieren Sie mit unserer fortschrittlichen API-Integration die Effizienz und Präzision. Entdecken Sie, wie die OpticStudio Enterprise Edition Ihren Entwurfsprozess revolutionieren kann, um die Auswirkungen von strukturellen und thermischen Lasten schneller zu analysieren.
Juli 2025
Die neueste Version von Ansys Zemax OpticStudio bietet leistungsstarke Funktionen für die Bildgebung, Multiphysik, Metalinsen-Konstruktion sowie Produktivität. Sie optimiert Arbeitsabläufe bei der Optikkonstruktion mit einer tieferen Ansys-Integration und Support für komplexe, praxisnahe Konstruktionen.
Eine neue NSC-Sequenzauswahl verbessert die Navigation und Bearbeitung von Pfaden nichtsequenzieller Komponenten (NSC, Non-Sequential Component). Benutzende können nun ihre NSC-Bildgebungssimulationen optimieren und so die Effizienz bei der Arbeit mit komplexen optischen Pfaden oder Strahlleitungs-Szenarien verbessern.
Zu den signifikanten Leistungsverbesserungen bei der Metalinsen-Konstruktion gehören ein neuer Fast Mode im Rahmen von Wavefront Technology (WFT) und die Möglichkeit, benutzerdefinierte Fenstergrößen zu definieren. Diese Änderungen sorgen für kürzere Simulationszeiten und mehr Kontrolle durch Benutzende während der Entwicklung von Nanooptik, insbesondere bei Anwendungen mit Flachlinsen.
Verbesserte Exportfunktionen nach Ansys Speos optimieren optisch-mechanische Arbeitsabläufe. Konstrukteur*innen können nun komplexe optische Modelle einfacher in Speos für die Simulation in der Praxis übersetzen, einschließlich Beleuchtung auf Systemebene, Umweltauswirkungen und Analyse des menschlichen Sehvermögens.
Ansys Zemax OpticStudio ist ein Software-Tool für optisches Design, das für Bildgebung, Beleuchtung, Lasersysteme und vieles andere verwendet wird. Die benutzerfreundliche Oberfläche von OpticStudio kombiniert Analyse-, Optimierungs- und Toleranzberechnungsfunktionen, um die Fertigungsmöglichkeiten zu verbessern. Mit den erweiterten Anpassungsoptionen können Sie OpticStudio an Ihre Anforderungen anpassen oder Ihre Arbeit automatisieren. Integrierte multiphysikalische Abläufe optimieren die Verwendung von Ergebnissen der strukturellen, thermischen oder fluidalen Simulation
Ansys Zemax OpticStudio ist die Lösung für den Entwurf von Komponenten und Unterbaugruppen in komplexen, hochpräzisen optischen Systemen. Solche Systeme eignen sich für eine Vielzahl von Anwendungen in verschiedenen wachstumsstarken Branchen, von AR/VR bis LIDAR, von medizinischer Bildgebung bis Datenkommunikation und vieles mehr.
Ansys Zemax OpticStudio ist ein leistungsstarkes Tool für Optiktechniker*innen und -designer*innen, um ihre optischen Designs zu simulieren, zu optimieren und zu validieren, bevor physische Prototypen gebaut werden. Es hilft dabei, Zeit und Ressourcen bei der Entwicklung optischer Systeme zu sparen, indem es Techniker*innen ermöglicht, Designs in einer virtuellen Umgebung zu iterieren und zu verfeinern.
Um Ansys Zemax OpticStudio für multiphysikalische Analysen nutzen zu können, benötigen Sie die Ansys Zemax OpticStudio Enterprise-Lizenz. Die Ansys Zemax OpticStudio Enterprise-Lizenz ermöglicht den einfachen Import von strukturellen, thermischen und Brechungsindexdaten in OpticStudio-Abläufe. Dadurch erhalten Sie wichtige Designeinblicke, erhebliche Zeitersparnisse und neue Möglichkeiten für die Systemanalyse.
| OPTIK | OpticStudio Pro | OpticStudio Premium | OpticStudio Enterprise |
|---|---|---|---|
| Ansys Optics Launcher | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Sequenzielles Raytracing | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Monte Carlo Forward (nicht-sequenzielles) Raytracing | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Systemmodellierung mit mehreren Konfigurationen | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Anzahl der parallelen Anwendungsinstanzen pro Lizenz | 4 | 8 | 8 |
| Polarisation, Gradientenindex und Doppelbrechung - Raytracing | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Designvorlagen und Objektivkatalog des Anbieters | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Materialkatalog | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Beschichtungskatalog | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Robuste Optimierungsmethoden | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Sensitivitätstoleranz | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Monte Carlo-Toleranz | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Ray-Aiming | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Asphärische Optiken | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Freiformoptiken | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Diffraktive Optiken | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Kompositoberfläche | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Bildqualitätsanalyse (geometrisch und diffraktiv) | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Gaußsche Balken | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Physisch-optische Ausbreitung | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Ghost Focus-Generator | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Ray-Splitting und Ray-Scattering | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Wichtigkeitsstichproben | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Multiphysikalische Tools zum Laden, Anpassen und Visualisieren von STAR (FEA, CFD) | Enthalten | ||
| STAR-Leistungsanalyse | Enthalten | ||
| Benutzerdefiniertes Plugin für Oberflächen-, Objekte-, Quellen- und Streuprofile | Enthalten | Enthalten | |
| Automatisierung des Arbeitsablaufs mit ZOS-API und Skriptautomatisierung | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Exportieren des vollständigen Designs oder des Modells reduzierter Ordnung (ROM) nach Speos | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Dynamischer und statischer Austausch mit Lumerical Sub-Wavelength Model (LSWM)-Plugin-Simulation | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Lumerical-Plugin zur Metalinsensimulation (statischer Datenaustausch) | Enthalten | Enthalten | |
| Import und Export von STEP, IGES, SAT, STL | Enthalten | Enthalten | Enthalten |
| Dynamischer Link zu Creo Parametric und Autodesk Inventor | Enthalten | Enthalten |
OPTICSTUDIO-RESSOURCEN UND VERANSTALTUNGEN
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