化学セミナーPart 2 : CVD（化学気相成長）の流体・反応解析ソリューションのご紹介
Time:
June 30, 2022
3:00pm-3:30pm at JST(2:00am -2:30 at EST)
Venue:
Virtual
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CVDでは成膜速度の均一化のため炉内温度、ガス流速の制御が重要ですが、測定困難な装置内の温度や流速の把握のためにシミュレーションを活用できます。AnsysはAnsys Fluentや反応計算に優れたAnsys Chemkin-Proにより、反応に特化した簡略計算から実機での最適な成膜状態の設定条件出しまで様々なソリューションを提供します。
本セミナーではAnsys Fluent、Ansys Chemkin-Proを用いたCVD計算事例や物理モデルやプリポストを紹介します。
こんな人に受講をおすすめ
・半導体製造装置会社などCVDに携わる設計者、CAE技術者
Ansysができること
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